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日本strex臺(tái)式真空等離子處理設(shè)備SP-0400
日本strex臺(tái)式真空等離子處理設(shè)備SP-0400 暴露于等離子體放電可以去除傳統(tǒng)清潔方法難以去除的表面污染物。它還可用于加工許多材料，如金屬、陶瓷、塑料和 PDMS。
更新日期：2024-04-08 訪問(wèn)量：923
日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列 氨法脫硫設(shè)備
日本 acxys 等離子體設(shè)備ULCoat系列 通過(guò)在放電后向等離子體中注入前驅(qū)體，ULCoat系列可以在處理過(guò)的表面上沉積薄膜。 ULCoat是一款可將前驅(qū)體汽化并注入等離子體中，后由噴嘴完成薄膜沉積的系統(tǒng)。ULCoat系列需要與ULS OMEGA系列配合使用。
更新日期：2024-03-23 訪問(wèn)量：1561
日本 acxys 等離子體設(shè)備ULD系列 氨法脫硫設(shè)備
日本 acxys 等離子體設(shè)備ULD系列 ULD系列有7個(gè)版本可供選擇，片狀等離子體的工作寬度從60 毫米到 500 毫米不等。 ULD系列的所有版本都配備了觸摸屏。
更新日期：2024-03-23 訪問(wèn)量：1491
TK-50日本sakigakes臺(tái)式直接式大氣壓等離子體 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes臺(tái)式直接式大氣壓等離子體TK-50 ■價(jià)格低廉 ■體積小 –易于與其他設(shè)備組合 –通過(guò)集成處理部件和操作部件易于處理
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1951
NRSR-P10日本sakigakes無(wú)氣筆式常壓等離子體裝置 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes無(wú)氣筆式常壓等離子體裝置NRSR-P10 易于使用筆型進(jìn)行操作 ■無(wú)需供氣，僅需連接AC100V電源即可使用 ■操作簡(jiǎn)便 ■控制箱小
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1773
日本sakigakes臺(tái)式大氣壓等離子體A1000 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes臺(tái)式大氣壓等離子體A1000 它是一種方便使用的類(lèi)型，易于操作。 ■方便的類(lèi)型，易于操作 ■控制箱為臺(tái)式型，節(jié)省空間 ■親水化取決于所使用的氣體
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1631
日本sakigakes筆式大氣壓等離子體P500-SM 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes筆式大氣壓等離子體P500-SM 可以在不破壞絕緣層上金屬的情況下進(jìn)行處理！ 表面改性：在大氣壓環(huán)境下穩(wěn)定產(chǎn)生等離子體而不會(huì)損壞電荷！
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1712
YHS-Ω日本sakigakes桌上型防水真空等離子裝置 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes桌上型防水真空等離子裝置YHS-Ω 可以在干燥過(guò)程中進(jìn)行防水處理 通過(guò)采用低頻電源，可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備本體價(jià)格的降低。 通過(guò)采用不銹鋼腔室，可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的過(guò)程。
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1700
日本sakigakes桌上型真空等離子裝置YHS-R 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes桌上型真空等離子裝置YHS-R 它是一種緊湊且便宜的規(guī)格。 表面處理薄膜形成之前的處理陽(yáng)極粘結(jié)之前的處理涂漆之前的處理其他生物/醫(yī)學(xué)領(lǐng)域
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1683
日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts ■業(yè)界*（根據(jù)我們的研究） ■直徑為100毫米（高度為5毫米或更?。┑奈矬w可以進(jìn)行等離子處理
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1673
日本sakigakes真空等離子體裝置US-80A 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes真空等離子體裝置US-80A 一次可以處理多達(dá)80 500mL瓶的血漿！ 更換電極即可與各種容量和形狀的瓶子兼容！[瓶加工照片]
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1689
MUG-80日本sakigakes粉末小型旋轉(zhuǎn)真空等離子體 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes粉末小型旋轉(zhuǎn)真空等離子體MUG-80 在真空室中引入了旋轉(zhuǎn)攪拌機(jī)構(gòu)。 干式滿量程分批處理 輝光放電中的攪拌以確保高度均勻性
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1610
YHS-DφS日本sakigakes粉末旋轉(zhuǎn)臺(tái)式真空等離子體 氨法脫硫設(shè)備
日本sakigakes粉末旋轉(zhuǎn)臺(tái)式真空等離子體YHS-DφS 我們縮小了等離子體設(shè)備的尺寸，該設(shè)備可修飾和清潔樹(shù)脂，玻璃和金屬的表面。它是桌面大小。 對(duì)表面改性/清潔/親水處理的高處理效果 正面和背面均由旋轉(zhuǎn)室共同處理，
更新日期：2024-03-18 訪問(wèn)量：1627
