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更新日期：2024-03-21
簡要描述：
日本shinkuu濺射設(shè)備MSP-20UM該裝置是在電子顯微鏡樣品上涂敷貴金屬薄膜并進行導(dǎo)電處理的裝置。搭載大氣氣體導(dǎo)入機構(gòu)、氣體大氣壓調(diào)整功能、電流調(diào)整功能，可用于各種用途。
日本shinkuu濺射設(shè)備MSP-20UM
該裝置是在電子顯微鏡樣品上涂敷貴金屬薄膜并進行導(dǎo)電處理的裝置。搭載大氣氣體導(dǎo)入機構(gòu)、氣體大氣壓調(diào)整功能、電流調(diào)整功能，可用于各種用途。此外，還可以根據(jù)條件設(shè)置自動進行一系列涂裝操作?？蓪㈦s質(zhì)混入降至低限度的旁通排氣系統(tǒng)和防止誤動作的聯(lián)鎖裝置齊全，并可選擇提高環(huán)繞性能的傾斜旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。
SEM觀察樣品的導(dǎo)電處理。為FIB制作保護膜。用于元素分析的導(dǎo)電處理。
此外，還用于制作電極、制作抗氧化膜等廣泛的用途。
日本shinkuu濺射設(shè)備MSP-20UM
| 物品 | 規(guī)格 |
| 電源 | AC100V（單相100V15A）1口 使用3芯插頭帶地線 |
| 設(shè)備尺寸 | 寬 350 毫米 x 深 420 毫米 x 高 347 毫米 （設(shè)備重量 18 公斤） |
| 旋轉(zhuǎn)泵 | 排氣速度 50? / min (GLD-051) 重量14.6kg |
| 樣品室尺寸 | 內(nèi)徑 149 毫米 x 高 82 毫米（硬玻璃） |
| 電極樣品臺間距 | 40mm |
| 樣品臺尺寸 | Φ50mm（浮動方式） * 使用可選傾斜旋轉(zhuǎn)時 傾斜角度：0 至 45° 旋轉(zhuǎn)速度：60 rpm |
| 可安裝的樣品尺寸 | 標(biāo)準(zhǔn)：≤Φ50mm，高度≤20mm *使用可選傾斜旋轉(zhuǎn)時 ：傾斜時：≤Φ20mm，高度≤20mm |
| 飛濺靶金屬規(guī)格 | Φ51 mm, 厚度 0.1 mm (Ag only 0.5 mm) Pt, Au, Au-Pd, Pt-Pd, Pd, Ag |
| 大氣氣體 | Air（空氣）或 Ar（氬氣） |
